ASML Holding N.V.（全稱(chēng)：Advanced Semiconductor Materials Lithography，中文：阿斯麥）是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商，總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬（Veldhoven）。公司專(zhuān)注于研發(fā)和生產(chǎn)用于芯片制造的光刻機(jī)，其技術(shù)是半導(dǎo)體行業(yè)的核心驅(qū)動(dòng)力之一。

YieldStar 系列產(chǎn)品型號(hào)及特點(diǎn)

YieldStar 125

應(yīng)用：適用于成熟制程的光刻工藝監(jiān)控。

功能：基礎(chǔ)版量測(cè)系統(tǒng)，提供套刻誤差（overlay）和關(guān)鍵尺寸（CD）的快速檢測(cè)。

YieldStar 135

升級(jí)點(diǎn)：更高精度的量測(cè)能力，支持更復(fù)雜的工藝節(jié)點(diǎn)（如28nm及以上）。

技術(shù)：增強(qiáng)型光學(xué)傳感器和算法，提升振動(dòng)補(bǔ)償性能。

YieldStar 145

先進(jìn)制程支持：專(zhuān)為7nm、5nm等先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)，精度達(dá)亞納米級(jí)。

集成性：可與EUV光刻機(jī)協(xié)同工作，實(shí)時(shí)反饋數(shù)據(jù)優(yōu)化曝光過(guò)程。

YieldStar 375/375E

高性能型號(hào)：針對(duì)3nm及以下制程，支持多參數(shù)量測(cè)（套刻、聚焦、劑量等）。

EUV兼容：優(yōu)化用于EUV光刻環(huán)境，減少噪聲干擾。

技術(shù)亮點(diǎn)

振動(dòng)補(bǔ)償：通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)晶圓臺(tái)振動(dòng)，動(dòng)態(tài)調(diào)整光刻機(jī)參數(shù)，確保曝光精度。

多波長(zhǎng)光學(xué)技術(shù)：部分型號(hào)支持多種波長(zhǎng)量測(cè)，適應(yīng)不同材料層。

其他注意事項(xiàng)：

更詳細(xì)的技術(shù)資料需通過(guò)提供項(xiàng)目詳情獲取，歡迎咨詢(xún)。

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